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Zemax光学设计从基础到实践

Zemax光学设计从基础到实践

定  价:118 元

        

  • 作者:张玺、唐钦 编著
  • 出版时间:2024/11/1
  • ISBN:9787122454645
  • 出 版 社:化学工业出版社
  • 中图法分类:TN202 
  • 页码:380
  • 纸张:
  • 版次:01
  • 开本:16开
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读者对象:本书非常适合从事光学系统设计、仿真与分析的技术人员自学使用,也可用作高等院校相关专业的教材及参考书。

本书系统讲解了利用Zemax 2023进行光学设计和仿真分析的各种方法和技巧,主要内容包括光学设计基础、认识Ansys Zemax OpticStudio、初识镜头数据编辑器、光学成像镜头设计、镜头编辑高级操作、光学系统分析、非序列模式设计、几何光学像质评价、物理光学像质评价、光学系统的优化、光学系统公差分析和光学系统设计实例等。
本书内容全面实用,循序渐进,实例丰富,且提供全部实例源文件,方便读者上手实践。同时,重点实例配套视频讲解,扫描书中相应的二维码,即可边学边看,学习更加高效。
本书非常适合从事光学系统设计、仿真与分析的技术人员自学使用,也可用作高等院校相关专业的教材及参考书。
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